Litografi, desen gerektirmeyen yüzey alanları hariç, tasarlanmış bir desenin doğrudan veya bir ara ortam aracılığıyla düz bir yüzeye aktarılması için bir tekniktir. Maske litografisinde, tasarımlar bir alt tabaka üzerine basılır ve birlazerböylece biriktirilen malzeme kazınarak uzaklaştırılır ve daha sonraki işlemlere hazır hale getirilir. Bu litografi yöntemi, yarı iletken gofretlerin seri üretiminde yaygın olarak kullanılmaktadır. Küçük özelliklerin keskin görüntülerini bir gofrete yansıtma yeteneği, kullanılan ışığın dalga boyu ile sınırlıdır. Günümüzün en gelişmiş litografi araçları derin morötesi ışık (DUV) kullanır ve gelecekte bu dalga boyları derin morötesi (193 nm), vakumlu morötesi (157 nm ve 122 nm) ve aşırı morötesi (47 nm ve 13 nm) yayılmaya devam edecektir. ). Çeşitli işlevlere ve alt katman boyutlarına yönelik talebin arttığı IC, MEMS ve biyomedikal pazarlar için karmaşık ürünler ve sık tasarım değişiklikleri, üretim hacimlerini azaltırken bu son derece özelleştirilmiş çözümlerin üretim maliyetini artırdı. Geleneksel maske tabanlı (maske) litografi çözümleri, çok sayıda maske kiti tasarlamak ve üretmek için gereken maliyet ve zamanın hızla artabileceği bu uygulamaların çoğu için uygun maliyetli veya pratik değildir. Bununla birlikte, maskesiz litografi uygulamaları, son derece kısa UV dalga boylarına duyulan ihtiyaç nedeniyle engellenmez ve bunun yerinelazermavi ve UV aralıklarındaki kaynaklar. Maskesiz litografide,lazerışığa duyarlı malzemelerin yüzeyinde doğrudan mikro/nano yapılar oluşturur. Bu çok yönlü litografi yöntemi, maske sarf malzemelerine dayanmaz ve düzen değişiklikleri hızlı bir şekilde yapılabilir. Sonuç olarak, hızlı prototipleme ve geliştirme, daha fazla tasarım esnekliği ile daha kolay hale gelirken, geniş alan kapsamı avantajını (300 mm yarı iletken yonga levhaları, düz panel ekranlar veya PCB'ler gibi) korur. Hızlı üretim gereksinimlerini karşılamak,lazerlermaskesiz litografi için kullanılanlar, maske uygulamaları için kullanılanlara benzer özelliklere sahiptir: Sürekli dalga ışık kaynağı, uzun süreli güç ve dalga boyu kararlılığına, dar çizgi genişliğine ve küçük maske değişimine sahiptir. Az bakım gerektiren veya üretim döngülerinin kesintiye uğradığı uzun ömürlü stabilite, her iki uygulama için de önemlidir. DPSS lazer, ultra kararlı dar çizgi genişliğine, dalga boyu kararlılığına ve güç kararlılığına sahiptir ve iki litografi yöntemi için uygundur. Rakipsiz dalga boyu kararlılığına, dar çizgi genişliğine ve uzun kuru uzunlukların dalga boyu aralığında küçük bir ayak izine sahip yüksek güçlü, tek frekanslı lazerler tasarlıyor ve üretiyoruz - bu da onları mevcut sistemlere entegrasyon için ideal hale getiriyor.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
